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富士通らが世界初の新技術

次世代HDDは1平方インチ当たり1テラビットへ

2007/08/09

　山形富士通と富士通研究所、財団法人神奈川科学技術アカデミーの重点研究室 益田グループは8月9日、次世代ハードディスクドライブの実現で重要となる新しいパターンドメディアの記録・再生に世界で初めて成功したと発表した。新しい技術を応用することで、現行HDDの5倍の容量に相当する1平方インチ当たり1テラビットの記録密度を持つHDDが実現できるようになるという。

開発した技術により形成された規則配列ナノホールの電子顕微鏡写真。(a)が表面、(b)が断面、(c)が磁性体（コバルト）

　大容量、高密度の次世代HDDの開発には、磁性材料を人工的に規則正しく並べるパターンドメディアと呼ばれる記録媒体の開発がキーになる。パターンドメディアでは磁性粒子の1つずつに1ビットを記録することで、高密度記録が可能になる。

　山形富士通らは、アルミニウムの表面にナノメートルサイズの凹みパターンを形成した規則配列ナノホールを、ディスク上に広範囲で一括形成する技術を開発した。規則配列ナノホールは、アルミナ（酸化アルミニウム）膜に生じるナノメートルサイズの穴で、アルミナナノホールともいわれる。山形富士通らは、このアルミナナノホールに磁性金属を入れ、2.5インチディスク上にパターンドメディアを形成。実際に磁気ヘッドを浮上させて、データを記録・再生できることに世界で初めて成功した。

　山形富士通らはすでに25ナノメートルピッチの1次元配列のナノホールの形成を実現。今後はナノホールを25ナノメートル間隔で円周方向に規則配列した記録媒体を作成し、1平方インチ当たり1テラビットの記録・再生を目指す基礎研究を行うという。

（＠IT　垣内郁栄）

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